產(chǎn)品展示
作為較先進(jìn)的治療白癜風(fēng)、牛皮癬，白斑病的儀器技術(shù)，最初是美國(guó)發(fā)明的，作為較先進(jìn)的治療白癜風(fēng)和牛皮癬，用于皮膚科臨床治療的308 nm準(zhǔn)分子激光是準(zhǔn)分子激光的一種,即氯化氙(XeCl)準(zhǔn)分子激光,屬連續(xù)的脈沖氣體激光,其波長(zhǎng)在UVB范圍內(nèi),脈沖寬度一般為l0～30 ns左右。臨床上治療用的激光發(fā)射器有Xtrac ( PhotoMedex,USA ) [ 4～6 ]、Lambda Physics LPX105E[ 2, 3, 7, 8 ]以及其他類型的發(fā)射器[ 9 ] ,常包括XeCl氣體系統(tǒng),由于XeCl二聚體由惰性氣體氙(最外層有8個(gè)電子)和鹵素氯(最外層有7個(gè)電子)組成,在電流激活時(shí)以結(jié)合狀態(tài)存在,而發(fā)出脈沖式激光。不同的激光發(fā)射器參數(shù)略有不同,以Xtrac AL7000為例,其所發(fā)308 nm 激光脈寬為30 ns,重復(fù)頻率為154 Hz,單脈沖能量密度為2～3 mJ / cm2 ,采用液體光導(dǎo)光纖傳輸激光,可形成2 cm ×2 cm的方形光斑,在治療過(guò)程中可根據(jù)需要調(diào)整光斑或選擇合適的劑量以達(dá)到較佳治療效果。在臨床用各型激光發(fā)射器均操作方便,操作者可以手持發(fā)射,手柄僅在皮損上移動(dòng),均勻照射所有皮損,也可固定于一個(gè)部位照射一段時(shí)間后,移至臨近部位。
激發(fā)308 nm準(zhǔn)分子激光的重要耗材為XeCl預(yù)混氣體，其實(shí)質(zhì)是Xe,HCl,Ne等氣體針對(duì)特定的品牌和機(jī)型按特定的比例預(yù)混的。目前PUREGAS可以提供幾乎市場(chǎng)上所有品牌的皮膚科準(zhǔn)分子激光設(shè)備所用的XeCl預(yù)混氣體
PUREGAS準(zhǔn)分子激光預(yù)混氣的優(yōu)點(diǎn)：
采用高1級(jí)別純度的原料氣體
采用自動(dòng)化氣體預(yù)混系統(tǒng)配制，有效降低人為因素影響
包裝鋼瓶采用特有的的鈍化技術(shù)，有效保證微量HCl,的比例.保證可靠的穩(wěn)定性
提供專1業(yè)的一體化服務(wù)，包括所有皮膚科準(zhǔn)分子設(shè)備的換氣和維修服務(wù)！
工業(yè)技術(shù)的升級(jí)轉(zhuǎn)型需要平衡日益增長(zhǎng)的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準(zhǔn)分子激光的誕生，以其高光子能量所稱著，在對(duì)突破材料限制需求越來(lái)越迫切的時(shí)代，準(zhǔn)分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。作為當(dāng)今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表，準(zhǔn)分子激光器有效地推進(jìn)了諸如半導(dǎo)體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機(jī)金屬沉淀、高溫超導(dǎo)、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫(yī)療、光纖、鉆石打標(biāo)設(shè)備及可替代能源等多種成長(zhǎng)型工業(yè)中的技術(shù)革新。準(zhǔn)分子激光氣體是用于準(zhǔn)分子激光設(shè)備中的激光發(fā)生器的關(guān)鍵氣體
常見(jiàn)的準(zhǔn)分子激光氣體和波長(zhǎng)相關(guān)：
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可用波長(zhǎng) |
193 nm |
ArF |
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248 nm |
KrF |
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308 nm |
XeCl |
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450nm~520nm |
XeF |
而具體的配比和包裝物和準(zhǔn)分子激光設(shè)備的品牌和型號(hào)相關(guān)：
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品 牌 |
機(jī) 型 |
波 長(zhǎng) |
準(zhǔn)分子激光氣體 |
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ATL |
ATL ARF-1 |
193 nm |
F2,Ar,Xe,Ne |
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ATL KRF-1 |
248 nm |
F2,Kr,Xe,Ne |
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TUI |
CTFTS-ARFV 2.2 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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CTFTS-KRFV 2.1 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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CTFTS-KRFV 2.2 |
248 nm |
F2,Kr,He,Xe,Ne |
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CTMD-ARFV 2.0 |
193 nm |
F2,Ar,He,O2,Ne |
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CTMD-XECLV 2.1 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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CTMN-ARFV 2.0 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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CTMN-ARFV 2.1 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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CTMN-KRFV 1.0 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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CTMN-KRFV 2.0 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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CTMN-XECLV 2.0 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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CTMN-XECLV 5.0 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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CTMN-XEFV 1.1 |
450nm~520nm |
F2,Xe,He,Ne |
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CTMN-XEFV 1.2 |
450nm~520nm |
F2,Xe,He,Ne |
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GAM Laser |
EX5 ArF |
193 nm |
F2,Ar,He,O2,Ne |
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EX5 KrF |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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EX5 XeCl |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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EX10 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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EX50 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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EX100 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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Photomedex |
XeCl |
308 nm |
HCl,Xe,Ne |
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Photoscribe |
ArF |
193 nm |
F2,Ar,Ne |
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KrF |
248 nm |
F2,Kr,Ne |
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PotomacPhotonics |
ArF |
193 nm |
F2,Ar,Ne |
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KrF |
248 nm |
F2,Kr,Ne |
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Spectranetics |
XeCl |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
PUREGAS 只需要您提供所用激光設(shè)備的品牌型號(hào)和輸出激光的波長(zhǎng)，就可以為您提供所需的特定配比的準(zhǔn)分子預(yù)混氣體！
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