半導(dǎo)體工業(yè)用的氣體統(tǒng)稱電子氣體（Electronic Gases）。按其門(mén)類可分為純氣，高純氣和半導(dǎo)體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用于外延，摻雜和蝕刻工藝；高純氣體主要用作稀釋氣和運(yùn)載氣。電子氣體是特種氣體的一個(gè)重要分支。電子氣體按純度等級(jí)和使用場(chǎng)合，可分為電子級(jí)，LSI（大規(guī)模集成電路）級(jí)，VLSI（超大規(guī)模集成電路)級(jí)和ULSI(特大規(guī)模集成電路）級(jí)

供氣方式主要有三種：

    大規(guī)模供氣系統(tǒng)

大規(guī)模供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。它們的投資規(guī)模巨大，采用最先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出最嚴(yán)格的要求。

常規(guī)供氣系統(tǒng)

常規(guī)供氣系統(tǒng)主要應(yīng)用于4-6英寸 大規(guī)模集成電路廠，50MW以下的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線，發(fā)光二極管的芯片工序線以及其它用氣量中等規(guī)模的電子行業(yè)。它們的投資規(guī)模中等，生產(chǎn)線可能是二手設(shè)備，對(duì)氣體純度控制的要求不苛刻，系統(tǒng)配備在滿足安全的前提下盡量簡(jiǎn)單，節(jié)省投資。

簡(jiǎn)單供氣系統(tǒng)

簡(jiǎn)單供氣系統(tǒng)主要針對(duì)4英寸及以下半導(dǎo)體芯片廠、半導(dǎo)體材料的科研機(jī)構(gòu)等。它們的制程簡(jiǎn)單，通常不需要連續(xù)性供氣，對(duì)氣體供應(yīng)系統(tǒng)的投資預(yù)算低，生產(chǎn)和管理人員欠缺安全意識(shí)。

由于氣體流量小，特種氣體氣源多采用普通鋼瓶（<50L）。輸送系統(tǒng)多采用半自動(dòng)氣瓶柜或氣瓶架，配置繼電器控制，自動(dòng)切換，手動(dòng)吹掃，手動(dòng)放空，有害性氣體配備緊急切斷閥。惰性氣體瓶架則采用全手動(dòng)系統(tǒng)，有些甚至用單瓶系統(tǒng)。共用一個(gè)氣體房，甚至沒(méi)有氣體房，特氣鋼瓶和輸送系統(tǒng)有時(shí)放在回風(fēng)夾道，或直接放在工藝制造設(shè)備旁邊。共用一個(gè)抽風(fēng)系統(tǒng)。

目前PUREGAS可以保證供應(yīng)的電子氣體主要有：(詳情請(qǐng)點(diǎn)擊)

   氨氣 NH3

   氯化氫 HCl

   甲烷   CH4

   一氧化二氮 N2O

   溴化氫 HBr

   一氧化碳CO

   氖氣 Ne

   氪氣 Kr

   硅烷 SiH4

   三氟化氮 NF3

   四氟化碳 CF4

   三氟化硼 BF3

   六氟化硫 SF6

   三氟甲烷 CHF3

   六氟乙烷 C2F6

   八氟丙烷 C3H8

   八氟環(huán)丁烷C4F8

   二氯甲烷 CH2Cl2

   三氯硅烷 SiHCl3

   三氯化硼 BCl3